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機械・建築
整理番号:0038
基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法及び該方法に使用する装置
最終更新日2004年10月13日(水)15時00分
・公開番号
特開2003-253451(P2003-253451A)
・公開日
平成15年9月10日(2003.9.10)
・発明の要約
大気開放型CVD法において、基材表面に酸化物あるいは水酸化物膜を形成する化学反応を促進する方法、特に基材温度200℃以下で酸化物あるいは水酸化物膜を効率良く形成する方法、及び該方法に使用する装置を提供する。
・発明者名
斎藤 秀俊
・所属機関
長岡技術科学大学 工学部
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